《电子技术应用》
您所在的位置:首页 > EDA与制造 > 业界动态 > 三星电子深化与蔡司在EUV光刻和先进半导体设备合作

三星电子深化与蔡司在EUV光刻和先进半导体设备合作

2024-04-30
来源:IT之家

4 月 29 日消息,据三星官方新闻稿,三星电子会长李在镕于当地时间 26 日访问蔡司位于德国奥伯科亨的总部,并于蔡司 CEO 卡尔・兰普雷希特等就加强两家公司的合作进行了讨论。

1.png

▲ 李在镕(中)、兰普雷希特(左)与蔡司半导体制造技术部门 CEO 安德烈亚斯・佩歇尔(右)在蔡司总部外合影留念。图源三星新闻稿,下同

蔡司是 ASML EUV 光刻机光学系统的独家供应商,每台 EUV 光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件,蔡司还在 EUV 光刻技术领域拥有 2000 多项关键专利。

多位负责半导体生产技术的三星电子高管也陪同李在镕进行了此次访问,包括 DS 部门 CTO 的宋在赫和 DS 部门的制造与技术总裁南锡宇等。

三星和蔡司管理层就双方公司半导体技术主要趋势和中长期技术路线图进行了交流。

未来,三星电子和蔡司将进一步扩大双方在 EUV 技术和先进半导体设备相关领域的合作。

合作的深化有望在三星未来的半导体产品上实现性能增强、流程优化、产能提升的成果,最终提升三星半导体代工和存储器业务的竞争力。

蔡司还计划到 2026 年投资 480 亿韩元(IT之家备注:当前约 2.53 亿元人民币)在韩国建设研发中心,加强同三星等韩企的战略合作。

2.png

▲ 李在镕(左二)、兰普雷希特(右二)、佩歇尔(左一)在蔡司大型设备前合影留念

新闻稿中还提到,三星电子计划于年内实现 1cnm(第六代 10nm 级)内存的量产,并正积极推广 NPU 业务。


Magazine.Subscription.jpg

本站内容除特别声明的原创文章之外,转载内容只为传递更多信息,并不代表本网站赞同其观点。转载的所有的文章、图片、音/视频文件等资料的版权归版权所有权人所有。本站采用的非本站原创文章及图片等内容无法一一联系确认版权者。如涉及作品内容、版权和其它问题,请及时通过电子邮件或电话通知我们,以便迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失。联系电话:010-82306118;邮箱:aet@chinaaet.com。