Rapidus 2026年内全面启动1.4nm研发
2026-03-31
来源:IT之家
3 月 31 日消息,参考了《日经 XTECH》当地时间 30 日刊文,日本先进半导体制造商 Rapidus 首席技术官石丸一成近日接受了该媒体的采访,表示目标到 1nm 先进制程节点将落后于台积电的时间缩短到半年左右。
石丸一成坦承,该企业在 2025 年 7 月宣布启动 2nm GAA 试制时晶体管的表现并不令人满意,整个过程相对仓促,工艺技术和生产设备都尚未完全准备就绪;不过在去年 9~11 月的快速改进中 Rapidus 的 2nm 性能得到了显著提升。该企业计划从 2026 年底开始生产客户设计的 2nm 测试芯片,为 2027 年的量产打下基础。
而对于衔接 2nm 和 1nm 的 1.4nm 节点,Rapidus 计划 2026 年内开始全面开发,目标 2029 年量产。Rapidus 将延续与 IBM 的深度合作,其一半工程师位于美国纽约州,参与联合研发。
关于Rapidus
由日本经产省牵头,软银、索尼、丰田等8家日本大公司共同筹办,成立于2022年8月10日。公司地址位于日本东京都千代田区,董事长为东哲郎,社长兼首席执行官为小池淳义。
主要从事半导体元件、集成电路等电子零部件的研究、开发、设计、制造及销售,同时研究、开发环保节能半导体和半导体制造技术。
2022年12月6日,与比利时微电子研究中心(IMEC)签署技术合作备忘录。
12月13日,与IBM公司建立战略合作伙伴关系,共同开发2纳米节点技术。
2023年2月,选定在札幌附近的千岁市兴建2纳米芯片工厂。
4月,日本经产省决定向其额外提供2600亿日元补贴。
2024年6月初,与IBM在2nm制程领域的合作从前端扩展到后端,共同开发芯粒(Chiplet)先进封装量产技术。
12月底,Rapidus北海道工厂接收ASML极紫外光刻机设备。
2025年4月,使用与IBM合作开发的配方,基于IBM的纳米片晶体管结构,启动并测试了其2纳米节点芯片的试验线。
7月18日,宣布已在其创新集成制造工厂(IIM-1)启动2纳米全环绕栅极(GAA)晶体管结构的原型试制,原型晶圆并已启动电性参数测试。

