全球第三大半导体设备制造商ASML于4月28日表示，已对尼康（Nikon）提出反诉。

ASML解释该事件的来龙去脉，ASML和Nikon在2004年签订了一项专利交叉授权协议，部分专利已获永久授权，其他专利的授权日期已于2009年12月31日结束，双方同意互不采取法律移动的过渡期也在2014年12月31日结束。

ASML总裁暨执行长Peter Wennink强调，在过去几年里， ASML曾多次尽全力试图与Nikon就交叉授权协议延展一事进行协商，但Nikon没有为此做出任何真正的努力，反而选择控告ASML专利侵权，公司对此感到失望。

Peter进一步强调，ASML始终相信，双方能以协商的方式来解决，对半导体产业而言是好的，可以推动产业的创新与合作，更可减少这类让产业无法集中精力在真正重要事情上的不必要专利诉讼案件，且Nikon提起的诉讼毫无根据，这将为整个半导体产业带来不确定性。

据路透社4月24日消息，日本尼康 宣布在荷兰、德国与日本针对 ASML（艾司摩尔） 和合作伙伴卡尔蔡司 （Carl Zeiss AG）的专利侵权提起诉讼，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 两家公司在未经 Nikon 的许可下将其微影 （lithography） 技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。尼康在诉讼文件中称，要求 ASML 和 Carl Zeiss AG 对未授权使用专利技术而做出赔偿。

尼康曾在半导体设备产业叱咤一时，是全球第八大半导体设备厂商。据尼康公布的2017财年第三季度财报（2016年4月1日~12月31日）显示，营业利润下降了41%，尼康净利润亏损0.5亿元人民币，而上年同期盈利还高达11亿人民币。

当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而 ASML 又主导着半导体光刻机市场。据评级机构“惠誉评级”（Fitch Ratings）今年1月发布的调研报告显示，在高端光刻机市场，ASML 的份额高达90%。而 ASML 公布的 2017 年第 1 季财报显示，第 1 季营收净利达 19.4 亿欧元，毛利率为 47.6%，且预估第 2 季营收净利在 19 到 20 亿欧元之间，毛利率约为 43% 到 44%。

尼康曾是日本半导体制造技术的代表厂商，1993 年尼康的半导体曝光设备全球市占率达 48.4%，几乎在市场称王。1984 年设立的 ASML，在创建初期远远不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，ASML 市占率开始快速攀升，最后不仅超越尼康，2015 年全球市占率高达 81%，尼康只剩 12.1%。