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全球半导体设备厂商 TOP 12强以及大陆TOP 10强盘点

2018-10-25
关键词: 半导体 显示 晶圆 NASDAQ

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Applied Materials(应用材料)

应用材料公司是一家半导体显示制造设备商,应用材料公司成立于1967年,2017财年,应用材料公司营业额达到145亿美元,在17个国家设有90个分支机构,全球员员工人数18400人。拥有超过11,900专利。

1984年,应用材料公司在北京设立了中国客服中心,成为第一家进入中国的国际芯片制造设备公司。通过长期参与中国的高科技制造业,应用材料公司为半导体、先进显示以及太阳能光伏制造行业提供设备与服务。

作为一家老牌的美国半导体设备商,应用材料(AMAT)是全球最大的半导体设备公司,产品横跨CVD、 PVD、刻蚀、CMP、RTP等除光刻机外的几乎所有半导体设备。在全球晶圆处理设备供应商中排名第一,应用材料市占率19%左右,其中,在PVD领域,应用材料占据了近85%的市场份额,CVD占30%。

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Lam Research(泛林)

LamResearch是刻蚀机设备领域龙头。Lam Research是向世界半导体产业提供晶圆制造设备和服务的主要供应商之一。主要从事半导体生产设备、开发、制造、销售及售后服务。公司的产品有等离子刻蚀机,化学机械抛光及清洗设备等。总部设在加州硅谷,是一家在NASDAQ上市公司。公司在世界各地设立了40多个分公司和客户服务中心。镁光科技、三星电子、SK 海力士等都是其主要客户。

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Tokyo Electron(东京电子)

Tokyo Electron LTD (简称TEL)成立于1963年,是全球领先的半导体制造设备和液晶显示器设备的制造商。东京电子是日本IC和PFD设备最大制造商,也是世界第三大IC和PFD设备制造商。

东京电子在半导体及液晶显示器的制造设备方面,TEL对全球电子产业的发展做出了巨大的贡献。TEL集团遍布全球,在日本、美国、欧洲、台湾、韩国及中国等地都建立了自己的网点。

东京电子的膜沉积和蚀刻设备营收在2016年涨幅超大大,这两种设备是用在生产大容量的 3D存储器。

公司在 2018 财年营业收入增长 37.96%,净利润增长 73.09%。公司十分注重研发投入, 2018 财年的计划研发费用约 1200 亿日元(约合 80 亿人民币),设备投资 510 亿日元(约合 30 亿人民币),

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ASML(阿斯麦)

ASML (全称: Advanced Semiconductor Material Lithography), 目前该全称己不做为公司标识使用,公司的注册标识为ASML Holding N.V),中文名称为阿斯麦(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)。是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一。

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生产效率最高,应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购TWINSCAN机型,例如英特尔(Intel),三星(Samsung),海力士(Hynix),台积电(TSMC),中芯国际(SMIC)等。

目前,荷兰ASML几乎垄断了高端领域的光刻机,市场份额高达80%。全球只有ASML能够生产EUV(极紫外光刻机),ASML新出的EUV光刻机可用于试产7nm制程,价格高达1亿美元。

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KLA-Tencor(科天)

KLA-Tencor于1997年4月通过 KLA Instruments (KLA)和 Tencor Instruments (Tencor)合并成立。 这两家公司一直是半导体设备和良率管理软件系统行业的长期领跑者。 在合并之前,两家企业分别致力于检测和量测领域,KLA专注于缺陷检测解决方案, 而Tencor则致力于量测解决方案。 通过价值13亿美元的一比一股票互换合并, KLA-Tencor 一举成为行业顶尖的工艺管控供应商,并且独家为客户提供完整的良率管理系列产品及服务。

KLA-Tencor公司是工艺控管和良率管理解决方案业界领跑者, 与世界各地的客户合作开发最先进的检测和量测技术。 这些技术致力于半导体, LED等相关纳米电子工业。

科磊自成立起便深耕于半导体前道检测设备行业, 目前其产品种类已经覆盖加工工艺环节的各类前道光学、电子束量检测设备。 凭借其检测产品高效、精确的性能特点,科磊以52%的市场份额在前端检测设备行业内具有绝对的龙头地位。

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Screen Semiconductor Solutions(迪恩士)

迪恩士(SCREEN)总部位于日本。成立于1868年,于1975年开发出晶圆刻蚀机,正式开启半导体设备制造之路。在随后的40多年里,迪恩士专注于半导体制造设备,尤其是清洗设备的研发与推广,开发出了适应于多种环境的各类清洗设备,并在半导体清洗的三个主要领域均获得第一的市场占有率。

迪恩士有4个主要的业务方向,半导体制造设备、图像情报处理机器、 液晶制造设备、印刷电路板设备。半导体制造设备包括清洁、涂布和退火设备,半导体制造设备是该公司收入的主要部分,2017年占总收入的66.7%。从2016年财年来看,半导体制造设备中,清洗设备收入占该业务收入的90%。

迪恩士不仅在半导体清洗设备,也在图像情报处理机器和液晶制造设备行业拥有龙头地位。 在图像情报处理机器领域,该公司的脱机直接印版(CTP技术)设备市场占有率为31%,为全球第一位。而在液晶制造设备领域, 液晶涂布机的市场占有率为71%,也为全球第一。

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SEMES(细美事)

SEMES成立于1993年,是半导体和FPD两个事业为主的综合设备厂商,于2004年建立TFT LCD设备生产为目的的第三工厂。Semes是韩国最大的预处理半导体设备与显示器制造设备生产商,可称其为韩国半导体设备厂第一大厂,主要生产清洗、光刻和封装设备。

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Hitachi High-Technologies(日立高新)

日立高新(Hitachi-High Technologies)成立于2001年,由Hitachi Ltd. Instruments Group和Semiconductor Manufacturing Equipments Group与Nissei Sangyo Co.,Ltd。(一家专注于电子产品的公司)合并而成。

日立高新生产的设备包括:半导体制造设备,如芯片贴片机和蚀刻和检测系统; 分析和临床仪器,如电子显微镜和DNA测序仪; 平板显示器(FPD),液晶显示器(LCD)和硬盘的制造设备; 计量和检查设备。该公司还销售钢铁,塑料,硅芯片,精细化学品,光学元件以及汽车相关设备和材料。日立高科技在日本的销售额占42%。日立拥有该公司近52%的股份。

在半导体设备方面,日立高新主要生产沉积、刻蚀、检测设备,以及封装贴片设备等。

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Hitachi Kokusai(日立国际电气)

Hitachi Kokusai Electric于2000年10月成立,由三家日立集团公司合并而成,这些公司从事与视频,无线通信和半导体制造设备相关的业务。国际电气:从事无线通信设备与半导体制作,1949年设立;日立电子:从事无线通信设备与映像设备制作,1948年设立;八木天线(Yagi Antenna),由发明八木天线的八木秀次博士于1952年成立,拥有天线专利。

该公司生产的半导体设备主要是热处理设备。

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Daifuku(大幅)

Daifuku(大福)(集团)公司自1937年成立以来,始终致力于物料搬运技术与设备的开发、研究。

大福(集团)有六项主要业务:制造业及流通产业;半导体、液晶制造业;汽车制造业;机场专用系统;洗车机及相关产品;电子产品。

其中在半导体、液晶制造业中,面向半导体、液晶制造业提供自动化洁净室输送、存储系统。该系统在生产智能手机和平板电脑所需的半导体和液晶显示器的过程中起着至关重要的作用,目前已在北美、韩国、中国和台湾等国家和地区获得了可观的销售业绩。

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ASM International(先域)

ASMI(ASM International)总部位于荷兰阿尔默勒,在阿姆斯特丹泛欧证券交易所上市。制造业设在新加坡和韩国。

ASMI主要生产光刻,沉积,离子注入和单晶圆外延设备,擅长是原子层沉积(ALD)和等离子体增强原子层沉积(PEALD)产品。

ASM是ASM International NV集团的一部分,该集团还包括ASM Pacific Technology(ASMPT)。

ASM是晶圆加工半导体工艺设备的领先供应商。公司开创了许多工业中使用的晶圆加工技术的重要方面,包括光刻,沉积,离子注入和单晶圆外延。近年来,公司将R&D的原子层沉积(ALD)和等离子体增强原子层沉积(PEALD)直接引入先进制造商的主流生产。

ASMP拥有大约2%的大部分所有权,是晶圆组装和封装以及表面贴装技术的半导体工艺设备的领先供应商。

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Nikon(尼康)

尼康成立于1917年,最早通过相机和光学技术发家,1980年开始半导体光刻设备研究,1986年推出第一款FPD光刻设备,如今业务线覆盖范围广泛。尼康既是半导体和面板光刻设备制造商,同时还生产护目镜,眼科检查设备,双筒望远镜,显微镜,勘测器材等健康医疗和工业度量设备。

在FPD光刻方面,尼康则可发挥其比较优势,尼康的机器范围广泛,从采用独特的多镜头投影光学系统处理大型面板到制造智能设备中的中小型面板,提供多样化的机器。

尼康虽然在芯片光刻技术上远不及ASML,目前的产品还停留在ArF和KrF光源,且售价也远低于ASML,和EUV更加难以相提并论。但目前,其盈利性也很大程度上依赖光刻设备,尤其是芯片光刻设备,2017年光刻设备营收占比高达33%。

尼康的研发投入也持续增长,但其中对于光刻设备的投入比重却在下降。从2008年260亿日元一路下降至2017年160亿日元。


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