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2018年全球光刻机出货逾600台,半导体用高端机型ASML占9成

2019-02-27
关键词: 光刻机 半导体 ASML

根据芯思想研究院的数据表明,2018年全球光刻机出货逾600台,较2017年的460台增幅达30%。

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2018年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货374台,较2017年的294台增加80台,增长27.21%。

 

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2018年ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收118.92亿欧元,较2017年增长25.21%。


从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货134台。其中ASML出货120台,占有9成的市场。

 

ASML

 

2018年ASML光刻机出货224台,营收达82.76亿欧元,较2017年成长35.74%。其中EUV光刻机营收达18.86亿欧元,较2017年增加7.85亿欧元。

 

2018年ASML共出货224台光刻机,较2017年198年增加26台,增长13.13%。其中EUV光刻机出货18台,较2017年增加7台;ArFi光刻机出货86台,较2017年增加10台;ArF光刻机出货16台,较2017年增加2台;KrF光刻机出货78台,增加7台;i-line光刻机出货26台,和2017年持平。

 

2018年单台EUV平均售价1.04亿欧元,较2017年单台平均售价增长4%。而在2018年一季度和第四季的售价更是高达1.16亿欧元。

 

目前全球知名厂商包括英特尔Intel、三星Samsung、台积电TSMC、SK海力士SK Hynix、联电UMC、格芯GF、中芯国际SMIC、华虹宏力、华力微等等全球一线公司都是ASML的客户。

 

2018年中国已经进口多台ArFi光刻机,包括长江存储、华力微二期。

 

Nikon

 

2018年度(非财年),Nikon光刻机出货106台,营收达20.66亿欧元,较2017年成长25.29%。

 

2018年度,Nikon半导体用光刻机出货36台,比2017年度增加9台,增长33.33%。其中ArFi光刻机出货5台,较2017年度减少1台;ArF光刻机出货9台,较2017年度增加1台;KrF光刻机出货5台,较2017年度增加3台;i-line光刻机出货17台,较2017年度增加6台。

 

2018年度,Nikon半导体用光刻机出货36台中,其中全新机台出货19台,翻新机台出货17台。

 

2018年度,Nikon面板(FPD)用光刻机出货70台。

 

Canon

 

2018年Canon光刻机出货183台,营收达15.5亿欧元,较2017年微增1.6%。

 

2018年Canon半导体用光刻机出货达114台,较2017年增加44台,增长62.85%。但是主要是i-line、KrF两个低端机台出货。

 

2018年全年面板(FPD)用光刻机出货69台。

 

其他光刻机公司

 

上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域,2018年出货大概在50-60台之间。

 

德国SUSS光刻机主要用于半导体集成电路先进封装、MEMS、LED,2018年光刻机收入约1.2亿欧元,较2017年增长约7个百分点。

 

ASML公司EUV进展

 

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2018年,ASML和IMEC建设联合实验室,目标一是加速EUV技术导入量产;二是实验以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系统能将EUV光源投射到较大角度的晶圆,从而提高分辨率,并且实现更小的特征尺寸。

 

2019年下半年,ASML将推出每小时吞吐量为170片的EUV新机型NXE:3400C;2021年将推出0.55 NA的新机型EXE:5000,可用于2纳米生产。

 

ASML预估2019年全年将出货30台EUV光刻机,据悉DRAM公司也将于2019年开始采用EUV光刻机制造。


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