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日韩互怼,三星躺枪台积电受益

2019-08-14

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据台湾媒体MoneyDJ报道,日本对韩国实施半导体原料出口管制,将引发新一波科技冷战,全球半导体产业扫陷入断链危机。市场则高度关心,韩国半导体大厂三星(Samsung)是否会因此受到打击,而晶圆代工龙头台积电或将从中受惠。业内专家分析,短期内应不会发生转单效应,但长期来看,这将打乱三星在发展先进制程的脚步,台积电可望再拉大与对手之间的距离、让其领先地位更加稳固。

光刻胶导入难度高 良率影响巨大

日本政府自7月4日起对韩国三项半导体材料实施出口管制,分别为使用在智能面板的氟化聚醯亚胺 (Polyimide),以及用在晶圆制程的光刻胶(photoresist)和高纯度氟化氢(Hydrogen fluoride),之后又将韩国从白名单中移除;韩国半导体公司虽可透过专案申请原料进口,但无法享有过去的简化程序。

韩国也没有坐以待毙,除给予同等还击外,据韩媒报导,政府更计划在明(2020)年大幅提高国家研发支出,以协助国内企业研发关键技术,包括工业材料与设备。由于,日本在这三项半导体原料的供应几乎呈现垄断,外界担忧此将不利韩国半导体产业发展,甚至蔓延到全球供应链。

究竟这对韩国半导体产业冲击为何?以晶圆代工来看,一位业内专家分析,虽然三项原料缺一不可,但从时效性的影响来看,以管制光刻胶的冲击最大。这次日方对韩国主要管制EUV(极紫外光刻)光刻胶,其扮演着先进制程的关键推手,更是7nm制程以下的标配;而韩国高达9成的光刻胶都仰赖日本进口,韩国公司想要在短期间内建立好第二供应链(second source)、并非易事。

他进一步说明,先不论韩国半导体公司找不找的到第二供应链,或是研发出自产材料,晶圆代工原料的验证时程相当长,从RD部门做原料及机台的匹配,到小量生产、上千片的试产,再到正式的导入,至少得花上半年到一年的时间,只要日方管制未除,先进制程发展势必受阻。

此外,从良率来看,光刻机( Scanner )制造速度相当快,每日约2,000-3,000片晶圆,如果原料出问题,影响巨大,从台积电年初爆发的光刻胶事件即可应证;而高纯度氟化氢则是用在湿式蚀刻机(Wet etching),其制造速度慢、约光刻机的八分之一至十分之一,若原料有问题,报废的晶圆相对少,对良率的影响也较小。

至于在日韩贸易战下,台积电是否可以从中得利?该名专家表示,台积电在全球晶圆代工7nm制程市占率很高(Trendforce预估达9成以上),推估台积因日韩贸易战而获得转单的空间相对有限;但以长期来看,三星在先进制程的发展上被绑上手脚,这将更加巩固台积的长期领先地位。

台积电7nm趋近满载5nm进度顺利

事实上,自从格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)、联电相继宣布退出先进制程后,台积电、三星就呈现捉对厮杀状态,而台积起步较早、取得先发优势,目前包括苹果(APPLE)、华为海思、高通、超微(AMD)…等都是大客户;台积于7月法说时更表示,7nm产能非常满,至年底占营收比重将超过25%。

某设备商主管透露,因客户需求强劲,台积原本预计明年第二季7nm产能达到10万片/月以上,目前已陆续购进新设备,要提前到今年底前完成;此外, 5nm进度也很顺利,台积下半年以来连续上调产能规划,自3.9万片/月调高到4.5万片、再到5万片/月,反映客户需求十分正向,预计明年第一季可量产。

台积电近期也调整全年资本支出,先前台积估计2019年将落在100~110亿美元,而为因应7nm、5nm需求,将加速扩充产能,上调资本支出至110亿美元以上。

对比之下,日前一度传出三星抢下NVIDIA 7nm EUV订单,NVIDIA随即发表声明否认,并强调合作对象依然是台积电,迅速打脸市场传闻。虽然,三星不停展现发展先进制程决心,积极抢攻7nm市占,更发下豪语要在2020年量产3nm、超车台积,但从实际接单来看,似乎没有太大斩获。

台积电先进制程规划:

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台积先进制程可望领先三星两年以上

日韩贸易战牵动全球半导体产业,近日看似有和缓迹象,据外媒报导,日本政府为了强调此并非禁运,上周(8/7)对EUV光刻胶发出了出口许可。对此,业内人士则认为,日本对韩管制半导体关键原料出口,等同于给韩国半导体公司戴上紧箍咒,除非管制取消或韩国培育出自主原料生产,才有可能将它取下。

市场预估,原先台积电在先进制程技术领先三星1.5-2年,在这次爆发日韩纷争后,三星在先进制程的布局上恐受影响,有可能再拉大双方距离到两年以上;尤其,发展先进技术是场与时间、资金、技术的全力竞赛,在任何一点丧失优势,都有可能输了赛局。