11月7日消息，据外媒报道，荷兰半导体设备供应商阿斯麦尔（ASML）将暂时停止向芯片制造商中芯国际供应EUV极紫外线微影设备。

有消息人士透露称：“ASML是为了避免因供应最先端设备给中国、因而刺激到美国，因此决定暂时中止交货”。消息人士还补充表示：“但与此同时，ASML不想让中国客户感到不安，因为那里是其增长最快的市场。”

所谓的EUV极紫外线微影设备，是使用通称极紫外线之极短波（13．5nm）光线的微影技术，能加工至既有ArF 准分子雷射光微影技术不易达到之20nm 以下的精密尺寸。不但能降低晶圆制造时光罩使用数量，以降低生产成本，并提高生产良率，也因能加工过去ArF 准分子雷射光微影技术不易达到的20nm 以下之精密尺寸，更有助半导体产业摩尔定律（Moore＇s law）再往下延伸，让半导体产业发展持续精进。

目前，ASML是EUV极紫外线微影设备的独家制造商，ASML营收占比中，有超过一半来自中韩两国，中芯国际更是其在华主要客户。去年4月份，中芯国际向ASML订购的EUV光刻机原定于2019年底交付，到2020年中期完成安装，如今遇上停止断供一事，无疑是两败俱伤的行为。