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光刻机产品填补国内空缺,上海新阳2019年净利增长3059.82%

2020-02-28
来源:与非网

  与非网 2 月 28 日讯,上海新阳近日发布 2019 年业绩显示,公司 2019 年收入规模稳步增长,实现营业总收入 6.4 亿元,比上年同期增长 14.54%,实现归属于上市公司股东的净利润 2.1 亿元,比上年同期增长 3059.82%。基本每股收益比上年同期增长 3072.49%。

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  上海新阳表示,报告期公司的营业利润、利润总额和归属于上市公司股东的净利润较上年同期分别上升了 4464.95%、9500.09%、3059.82%,导致公司本年度财务指标变动较大有以下因素:

  1、报告期内上海硅产业集团股份有限公司以增发股份方式,购买公司持有的上海新昇半导体科技有限公司 26.06%的股权,以及公司仍持有上海新昇公司 1.5%的股权,且按《长期股权投资》准则将剩余股权按置换日的公允价值重新计量产生的投资收益 3.1 亿元,扣除所得税影响后增加净利润 2.6 亿元;

  2、报告期公司根据第三方评估机构的评估结果,对 2013 年资产重组时形成的商誉计提减值准备约 7400 万元;

  3、报告期内公司从二级市场回购股份用于员工持股计划,因员工持股计划受让本公司回购股价低于受让日公允价值,视同按照权益结算的股份支付的费用 1614 万元;

  4、报告期内公司光刻胶项目研发和参股子公司新阳硅密(上海)半导体技术有限公司晶圆电镀设备研发经费支出增加约 1300 余万元;

  据了解,上海新阳用于 KRF248nm 光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试。上海新阳指出,ARF193nm 光刻胶是芯片制造进入 90nm 铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品,一直是国内空白,公司研发该款光刻胶意在填补国内空白,实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。经过近三年的研发,关键技术已有重大突破,已从实验室研发转向产业研发。


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