存储芯片厂商SK海力士昨日宣布，其公司位于韩国首尔南部利川市的M16新厂已经竣工，SK海力士将首次使用极紫外辐射（EUV）光刻机在生产存储芯片。

　　SK海力士经过两年的时间，花费了3.5万亿韩元（约合31亿美元）建成了这座芯片工厂，工厂长336米，宽163米，高105米，相当于一座37层公寓的高度，是SK海力士目前最大的芯片工厂。

　　SK集团董事长崔泰源在颁奖典礼上称，建造新工厂的决定在两年前是十分大胆的，因为当时整个半导体存储芯片市场正处于低迷，如今看来这个决定十分明智。

　　SK海力士称已在新厂M16引进了EUV光刻机，从而提高芯片电路的精细程度。

　　目前SK海力士计划从今年6月开始使用EUV光刻机量产第四代10nm（1α）DRAM芯片。

　　据SK海力士CEO李锡熙介绍，M16是比较先进的芯片制造工厂，集中了符合ESG（环境、社会和治理）理念的先进设施，例如专门用于EUV设备的车间和最新的污染减排设施。

　　他还称，M16的竣工也代表着其公司于2015年宣布的“未来愿景”的早期实现。当时，SK海力士宣布将从2014年起在10年内建造三座新工厂，M14和M15分别于2015年和2018年竣工，M16是其“未来愿景”中最后一间工厂。

　　本次SK海力士的工厂竣工将正好赶上服务器扩充，全球芯片短缺这一节点。该公司预计今年DRAM需求将增长约17%至 20%，此外今年服务器产品的需求也可能增长30%以上。SK海力士的工厂竣工赶在了最合适的节点上，这离不开其公司对整体行业的精准判断。

　　同时在SK海力士使用EUV技术后，三大芯片存储厂商就只剩下美光还未引入EUV光刻机。短期内美光采用1α工艺的DRAM成本可能会低于另外两家，但是长期来看可能将缺少三星、SK海力士大规模采用EUV技术生产DRAM的经验，这可能会使其在市场竞争中处于下风。