10月29日，上交所披露科创板上市委2021年第79次上市委审议会议结果公告，拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”)首发上市获通过。

上会稿显示，拓荆科技此次拟募集资金10亿元，扣除发行费用后，将投资于高端半导体设备扩产项目，先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目及补充流动资金。上市后预计市值不低于30亿元。

资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

拓荆科技的前三大股东分别为国家集成电路产业投资基金股份有限公司、国投（上海）科技成果转化创业投资基金企业（有限合伙）、中微半导体设备（上海）股份有限公司，其中国家集成电路产业投资基金的持股比例为26.48%。

据披露，拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，其产品产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线，2.5D、3D先进封装及其他泛半导体领域，被成功应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。

数据显示，2021年1-3月，拓荆科技的前三大客户为长江存储、华虹集团、以及中芯国际。

拓荆科技表示，主要由于公司所处半导体设备行业具有量少价高的特点，且存在验收时间和收入确认时间集中在下半年和第四季度的行业特性。因此，2021 年第一季度公司的销量较少，导致客户集中度无法被销量分摊。