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海力士半导体DRAM产品获得 ISi的Z-RAM存储技术授权

该技术大幅度缩减DRAM尺寸和成本,千万美元级交易改变DRAM世界面貌
2007-08-14
作者:海力士半导体

Z-RAM? 高密度存储知识产权(IP)开发商Innovative Silicon Inc(ISi),与海力士" title="海力士">海力士(Hynix)半导体有限公司(韩国证券期货交易所:HynixSemi)今日宣布:海力士已经同意在其动态随机存储器(DRAM)芯片中采用ISi的Z-RAM技术。采用Z-RAM的DRAM将使用一种单晶体管" title="单晶体管">单晶体管位单元,来替代多个晶体管和电容器的组合,这代表了自上世纪70年代初发明DRAM来,基本DRAM位单元实现了首次变革。海力士已经获得了抢先将Z-RAM引入DRAM市场的机会。为确保这项优势,两家公司已经投入相当大的工程资源共同开发该项目。 

Z-RAM最初作为全球成本最低" title="成本最低">成本最低的嵌入式内存技术而应用于逻辑芯片,如移动芯片组、微处理器、 网络和其他消费应用。2005年12月AMD首次获得该项技术授权,将这项技术应用于微处理器设计。目前此次与Hynix的合作,使Z-RAM成为超过300亿美元的存储器市场中成本最低的存储器技术。 

 “ Z-RAM保证提供一种在纳米工艺上制造高密度DRAM的最佳方法,” 海力士研发部副总裁Sung-Joo Hong说。“以ISi的 Z-RAM创新为基础,我们看到了开创全新产品平台的潜力,这将帮助我们继续保持和扩展在存储器市场中所处的领先地位。” 

 “ 海力士决定与ISi的合作是对我们Z-RAM存储技术" title="存储技术">存储技术的实力和商业效益的进一步肯定,尤其是海力士是存储器芯片市场的主导者,它的产品被广泛应用于多种电子设备中,如个人电脑、服务器、工作站、显卡以及手持设备,如手机、MP3播放器和数码相机等,”ISi首席执行官Mark-Eric Jones说。“采用ISi的Z-RAM技术制成的存储器芯片尺寸更小,成本更低。我们期待着与海力士在下一代DRAM芯片中的合作,从而为最终用户带来极大的性能和可用性方面的优势。” 

ISi营销副总裁Jeff Lewis说:“我们相信这是ISi和Hynix的重要里程碑。Z-RAM将对DRAM的设计和制造产生深远影响。由于2006年DRAM产业产品销售超过330亿美元,这样的发展将显著地影响到整个电子行业。” 

ISi的Z-RAM与目前标准DRAM和SRAM(静态存储器)方案不同,因为其单晶体管(1T)位单元结构是全球最小的存储单元,这使其成为全世界密度最高、成本最低的半导体存储方案。通过采用绝缘体上硅结构(SOI)晶圆,Z-RAM的单晶体管存储位单元可利用电路制造中发现的浮体效应(FBE)而变成现实。此外,因为Z-RAM是利用了SOI自然产生的效应,在存储位单元内无须通过改变外在工艺来构建电容或其它复杂结构。

关于Innovative Silicon 

Innovative Silicon Inc.(ISi)是为需要低功耗、高密度和高速度的嵌入式单芯片系统(SoC,)、微处理器(MPU)以及便携式消费应用提供超高密度存储知识产权(IP)的公司。2007年1月,其技术被IEEE Spectrum杂志评选为优胜半导体技术;并在2007年4月又获得了ACE新兴技术奖。ISi的 Z-RAM? 存储技术可为嵌入式DRAM提供多达两倍的密度,是嵌入式SRAM密度的五倍。公司于2003年完成了第一轮风险投资融资,并于2004年完成其第一个" title="第一个">第一个90nm制程兆位 Z-RAM存储器设计,2005年完成其第一个65nm设计,2006年完成第一个45nm设计。通过拥有20多项已颁布专利,Z-RAM? 独特的单晶体管结构是世界上成本最低的半导体存储器方案。公司在美国成立,并在瑞士洛桑设立了研发中心。更多信息请登陆www.z-ram.com 

关于海力士(Hynix)半导体有限公司 

总部位于韩国利川的海力士半导体有限公司 (HSI),是世界顶级存储器半导体供应商,公司为许多成功的国际客户提供动态随机存储器(DRAMs)芯片和闪烁存储器芯片。公司股票在韩国证券交易所交易,全球存托股票在卢森堡证券交易所上市。更多信息请登陆www.hynix.com 

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