半导体设备业龙头艾司摩尔" title="欧洲半导体设备业龙头艾司摩尔" target="_blank">欧洲半导体设备业龙头艾司摩尔（ASML Holding  NV）22日宣布，美国某大客户已经下单，至少会订购15台极紫外光（EUV）微影设备，以便支援日益增多的研发作业和未来世代制程技术的试产方案。

　　ASML宣称，最初两台NXE:3350B  EUV系统预计今（2015）年底前就能交货，这些设备将加入客户自身已有的EUV研发系统行列。ASML执行长Peter  Wennink说，EUV微影设备已接近大量普及的阶段。

　　费城半导体指数成分股ASML 22日闻讯跳涨10.29%、收107.81美元，涨幅居30支成分股之冠，创3月24日以来收盘新高。

　　彭博社报导，英特尔（Intel Corp.）是ASML在美国的最大客户。ING Bank NV分析师Robin van den  Broek在接受专访时指出，这明显是英特尔想要在7  纳米制程技术中导入EUV设备，而假如以正常的报价计算，这笔订单的金额将高达15亿欧元；也就是说，英特尔已将一笔为数不小的资金投入了7纳米制程科技。

　　den Broek还说，ASML另外两家大客户分别是三星电子（Samsung Electronics  Co.）与台积电，他认为这两家业者也会跟进导入EUV。

　　barron`s.com报导，Cowen & Co.分析师Timothy Arcuri  22日随即发表研究报告指出，台积电正在积极推进10纳米制程，且研究显示该公司的进度还不错。相较之下，英特尔的10纳米进度则略为延迟，而该公司为了保持制程上的领先，可能会被迫加速研发7纳米，进而向ASML买进设备。

　　台积电共同执行长刘德音曾在4月16日表示，旗下的10纳米制程已获十个客户采用、预定明年第4季就能量产，而10纳米制程产能会在2016年与2017年期间布置完毕。另外，台积电也已开始研发7纳米制程技术，预计2017年就进入最后试产阶段的风险生产  （Risk Production）。

　　国际半导体设备材料协会（SEMI）甫于4月21日公布，2015年3月北美半导体设备制造商接单出货比（Book-to-Bill  ratio）初估为1.10，连续第3个月高于1.0，并且创下2014年6月以来新高。1.10意味着当月每出货100美元的产品就能接获价值110美元的新订单。

　　华尔街日报报导，英特尔4月14日宣布将2015年资本支出预算自100亿美元（加减5亿美元）降至87亿美元（加减5亿美元）。两天后，台积电也宣布下修今年资本支出、幅度达9%。根据Pacific  Crest的统计，全球三分之二的半导体资本支出集中在英特尔、三星以及台积电这三家厂商。