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半导体产业的未来 3D堆叠封装技术

2016-06-15

  半导体业晶圆制程即将达到瓶颈,也就代表摩尔定律可能将失效,未来晶圆厂势必向下整合到封测厂,在晶圆制程无法继续微缩下,封测业将暂时以系统级封装等技术将芯片做有效整合,提高芯片制造利润,挑起超越摩尔定律的角色,日月光、矽品及力成积极布局。

  半导体协会理事长卢超群指出,未来半导体将要做3D垂直堆叠,全球半导体产业未来会朝向类摩尔定律成长。

  晶圆微缩将达瓶颈

  矽品研发中心副总经理马光华表示,未来单一芯片已经无法继续缩小情况下,或着是说缩小的成本价格已经超越经济效益,这时候就必须透过封装技术,来提升芯片的性能效益,好比日月光系统级封装(SiP)技术或晶圆级封装等。

  马光华指出,所谓晶圆级封装就是将整片晶圆直接进行封装及测试,过程中少掉部分封装材料,制作起来的IC(集成电路)会相对较薄,而所谓的扇出型晶圆级封装也就是直接在晶圆上进行扇出封装,能将材料再节省3成,同时芯片能更薄。

  未来还有面板级封装,马光华解释,面板级封装也就是直接利用面板进行封装,相较在12寸晶圆上切割IC,能更有效率且节省成本,等到扇出型封装在面板上成熟后,就会出现面板级系统级封装。

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  面板级封装省成本

  现在各大厂无不瞄准先进制程封装,以提升封测品质,更要甩开对手,其中日月光正在积极布局扇出型封装及系统级封装,先前日月光还取得DECA TECHNOLOGIES的扇出型晶圆级封装制程技术与专利授权 。

  力成董事长蔡笃恭表示,由于未来产品发展将朝向轻薄短小,不过摩尔定律面临极限后,就必须采取先进封装技术弥补这方面的不足,不论是2.5D、3D或是扇出型(Fan out)封装等,力成所有设备都准备好了。

  封测业人士指出,目前不论是在逻辑IC上抑或是NAND Flash上,都需要3D堆叠技术,才能让芯片效益发挥最大化,也才能达到轻薄短小的程度。


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