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英特尔不仅10nm延期,EUV光刻工艺也要落后三星、台积电两年

2018-11-01
关键词: 英特尔 EUV光刻工艺

  随着Globalfoundries公司无限期退出7nm及以下工艺研发,全球有能力研发先进工艺的只剩下英特尔、台积电及三星,其中英特尔公司是过去几十年中半导体工艺最强大的公司,但是现在他们的10nm工艺都延期到明年底,台积电、三星的7nm已经或者即将量产。英特尔在制程工艺上的延期不只是影响10nm及未来的7nm工艺,更重要的是英特尔使用EUV光刻工艺也面临不确定性,分析称2021年底英特尔都不太可能用上EUV工艺,而台积电、三星明年的7nm改进版工艺就会用上EUV工艺。

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  常看超能网的读者应该知道EUV光刻机对7nm及以下的工艺节点非常重要,目前全球唯一能生产EUV光刻机的就只有荷兰ASML公司了,而EUV光刻机研发已经有二十多年历史了,现在的EUV光刻机虽然已经量产出货,但在产能还达不到要求,所以台积电首先推出了不使用EUV光刻工艺的第一代7nm,预计明年的7nm+增强版工艺上才会使用EUV光刻工艺。

  在EUV光刻机上,三星是最激进的一家,直接在7nm工艺上首发EUV工艺,但这也导致三星的7nm工艺难度高,进展比台积电更慢,台积电今年中就开始量产7nm芯片,三星的7nm EUV工艺预计要到明年初才能正式量产,而且客户数量远低于台积电的50多家。

  GF公司原本也在第二代7nm工艺上使用EUV工艺,不过他们现在退出了7nm工艺的研发、生产,EUV光刻机也用不上了,不知道会如何处理他们的EUV光刻机及之前的ASML光刻机订单。

  在EUV工艺上,英特尔还是最早投入研发资源的半导体公司之一,但是现在英特尔的不确定性也是最大的,前几年英特尔还表态他们并不依赖EUV工艺,即便没有EUV光刻机也懂得如何制造7nm工艺的芯片,这番豪言已经是2014年的事了。

  现在英特尔最大的麻烦不是EUV光刻工艺,他们首先要解决的是10nm工艺的量产,将良率提高到可以接受的程度,在2019年底正式推出基于10nm工艺的处理器,而在2020年才有可能大规模生产出移动、桌面、服务器版的10nm芯片。

  英特尔的7nm工艺尚在研发中,英特尔透露的消息非常少,此前只是表态称7nm工艺上吸取了10nm工艺的教训,不搞太浮夸的指标以便降低量产难度。至于EUV工艺,英特尔官方没有正式表态呢,EETiems上周在报道中援引伯恩斯坦分析师Mark Li的消息称英特尔还在等待EUV技术更加成熟,在2021年底之前不会将EUV工艺纳入到其工艺技术中去。

  这个分析意味着英特尔至少要在三年后才能用上EUV工艺,即便2021年末真的推出了EUV工艺,那也意味着英特尔在这个技术进度上落后台积电、三星公司两年时间,尽管英特尔的决定可能更成熟一些,在新工艺技术问题没解决之前上EUV工艺可能会引入额外的风险。