国内首条全国产化12寸硅光芯片流片平台正式投用
2025-11-12
来源:快科技
11月11日消息,据“中国光谷”微信公众号介绍,日前,国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK(工艺设计套件)、TDK(测试设计套件)及ADK(封装设计套件)流片服务平台正式在光谷投用。
该平台由国家信息光电子创新中心(NOEIC)建设运营,标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。
据介绍,传统芯片靠电子传输数据,好比汽车运货,硅光芯片则让光子穿梭于光纤,变身“光速高铁”。
该平台创新构建硅光MPW服务模式,通过将多个芯片设计集成于同一晶圆流片,实现成本分摊,大幅降低研发门槛。

国家信息光电子创新中心硅光芯片
平台基于40nm制程的硅光PDK1.0性能总体达到商用要求,其加工精度、波导损耗、光耦合效率等指标达国际先进水平。
据了解,除PDK外,平台还集成了TDK和ADK,可提供芯片从集成设计到封装验证的全流程支撑,可满足科研成果转化和产品研制中的快速迭代需求。

国家信息光电子创新中心硅光芯片加工场景
近年随着技术成熟及AI需求爆发,硅光芯片在人工智能、大数据等前沿产业领域迎来大规模应用。
咨询机构LightCounting预计,到2030年硅光芯片在光通信芯片市场占比将增至60%。

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