7 月 29 日消息，御微半导体今日宣布，全新自研的国内首款可完整覆盖 90nm 至 28nm 制程节点的掩模图形缺陷检测设备 Raptor-600 正式发运国内头部晶圆厂。

掩模版是芯片光刻环节的核心“母版”，它的品质直接左右整片晶圆的生产良率。细微的图形缺陷，都有可能造成整批晶圆全部报废。

该设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。

官方表示，自 2025 年初，可完整覆盖 90nm 及以上的初代机型 Raptor-500 交付落地后，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600 完成全方位技术升级：

自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，同步捕捉各类影响掩模及光刻良率缺陷；

搭载纳米级高精度运动平台，保障检测定位微米级稳定精度；

配套超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度与适配性大幅提升。