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TEL熊本研发中心启用 瞄准1nm级制程设备
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东芝NuFlare新品多重电子束掩膜光刻设备支持A14先进制程
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SEMI：2027年起美国半导体投资将超越中国
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106CEF观众预登记正式开启！
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2025Q2中国大陆以34.4%份额稳居全球最大半导体设备市场
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中国光刻机仍停留在65nm 落后ASML约20年
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第106届中国电子展——助推电子元器件产业迈向新高峰
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日本觊觎台积电2nm原因找到了
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第106届中国电子展：创新强基 智造升级
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