日本光阻材料制造大厂JSR株式会社与比利时微电子研究中心(IMEC)日前共同签署合作意向书(Letter of Intent, LOI)，将携手成立合资公司，研发生产下一代极紫外光微影(EUV Lithography)光阻(Photoresist)解决方案，以迎合下世代制程技术需求，期能为半导体产业实现EUV微影材料制造和品质控制。

　　IMEC总裁暨执行长Luc Van den hove表示，长期以来，JSR一直是IMEC的重要策略夥伴，此次合作让双方关系更为紧密，并可建一个中立且开放的创新研发平台，使EUV相关供应商在制程步骤和模组发展的早期阶段更深入的参与。此外，藉由JSR生产设备和IMEC技术平台间更为紧密的合作，也可让我们的合作夥伴能在下一代微影技术中采用最好的材料。

　　JSR总裁Nobu Koshiba指出，EUV微影是实现半导体摩尔定律(Moore’s Law)的必备技术，因此该公司不断投注心力在该领域的研发，以满足产业需求；不只已成功研发化学放大(Amplified)光阻剂，全新设计的化学材料也具备极高的敏感度(Sensitivity)和良好的生产力。除此之外，JSR也将技术扩展至周边材料，例如多层材料。

　　Koshiba进一步谈到，半导体产业正迫切需要材料供应商准备好制造的基础设施，以及无缺陷(Defect-Free)微影技术方案的品质控制能力，同时还必须提高光阻剂的性能，以与EUV曝光设备相匹配。

　　EUV微影技术被视为是将摩尔定律延长至单位数(Single Digit)奈米(nm)技术节点的主要驱动力。IMEC和JSR的合作，可让双方在开发光阻解决方案时发挥各自优势，JSR将提供合资公司其制造技术，并透过安装制造和分析设备，为其在比利时的全资子公司--JSR Micro的设备升级；IMEC则将为合资公司提供材料品质控制的专业技术和服务。除了JSR光阻剂的制造外，该合资公司也将采取机密性保护方式，提供其他材料供应商付费生产的制造能力。