文献标识码: A
文章编号: 0258-7998(2015)05-0063-04
0 引言
功率放大器(PA)应用于发射机系统,将上变频之后的射频信号进行放大,然后输出到天线发射出去,由于PA处在发射机的末端,所以其线性度直接决定了发射信号的质量。随着现代调制方式越来越复杂,对发射信号的质量要求也更加严格,因此设计一个高线性度的PA成为了一个充满挑战的课题。另一方面,为了实现远距离通信要求,对PA的发射机功率要求也越来越高,目前常见的手机通信协议对PA的发射功率要求接近甚至超过1 W,无线局域网(WLAN)虽然对PA的发射机功率要求只有20 dBm,但是由于WLAN采用正交频分复用技术(OFDM)调制方式,信号峰均比(PAR)达到17 dB,为了满足系统对线性度的要求,PA一般工作在功率回退的情况,同样为了满足WLAN输出功率要求,WLAN PA的最高输出功率也要设计到瓦级。
目前市场上主流PA产品采用的是砷化镓(GaAs)、锗化硅(SiGe)等特殊工艺,虽然采用CMOS工艺设计制作的PA也已成功应用于手机产品[1],但是由于CMOS工艺一些难以克服的固有缺陷,CMOS PA市场占有率仍然较低。为了解决CMOS PA设计的问题并使所设计的PA达到一定的性能指标,将输出功率提升技术、线性度提高技术和效率提高技术广泛应用于CMOS PA的设计[2-8]。本设计采用片上变压器合成技术增加PA的输出功率,二次谐波短路用来提高PA的线性度,从而实现了2.5 GHz高线性度瓦级CMOS功率放大器的设计。
本文所述的PA电路设计基于TSMC 0.18 μm CMOS工艺,仿真结果表明在2.5 GHz工作频率点,输入完全匹配(S11=-25 dB),小信号增益达到25 dB,功率增益为19.4 dB,最高输出功率达到31.8 dBm,最高功率附加效率(PAE)达到32.9%,三阶交调失真在输出功率等于22.3 dBm时为-30 dBc。根据仿真结果,该PA达到输出功率、线性度和效率等性能指标的折中设计,可应用于2.5 GHz频段的发射机系统,实现高输出功率的单片CMOS收发器。
1 功率放大器的电路设计
2.5 GHz的整体电路结构如图1所示,包括输入变压器、驱动放大器、2个子功率放大器和功率合成器等4个模块。其中输入变压器用来实现单端输入信号到差分输出信号的转换;驱动放大器和子功率放大器结构相同,采用差分结构来输出更高的功率,同时抑制奇次谐波,提高PA的线性度;功率合成器实现两个子功率放大器的输出信号相加,同时将差分信号转为单端信号输出到负载。为了提高整体电路的稳定性,串联RC网络应用于驱动放大器和子功率放大器。输入变压器和功率合成器两端均有调谐电容,控制整体电路在2.5 GHz达到最优性能。差分结构的电感接在驱动放大器的正负输出端,和级间电容在2.5 GHz谐振,同时从该电感的中心抽头给驱动级提供电源。
该PA的电路设计过程如下:从输出端开始向输入端逆向进行设计,首先选定功率合成器的结构、主次线圈比、几何形状;然后设计子功率放大级,确定MOS管的具体尺寸,采用负载牵引仿真,使得输出功率和效率达到最大值;下一步设计驱动级MOS管的尺寸和级间电感的大小;最后设计输入变压器,同样确定其线圈比、几何尺寸。以上电路尺寸确定完毕后还需要对PA整体电路进行优化仿真,在线性度和效率等性能之间进行折中处理,同时考虑后期版图的设计,对电路中的每个尺寸进行仔细核对并作合理优化,最终使PA各项性能指标达到设计要求。
2 功率合成器
随着CMOS工艺节点越来越小,可提供的电源电压也越来越小,但是MOS管的阈值电压并没有随之下降,这样为了增加PA的输出功率必须采用更大尺寸的MOS管,导致功率和面积增加。为了增加PA的输出功率,功率合成器广泛应用于CMOS PA的设计[2,4-6],同时实现阻抗变换、差分信号转单端信号、静电保护等功能。根据输入信号接入形式,片上功率合成器可以分为串联和并联两种形式,其中串联功率合成器实现电流相加,并联功率合成器实现电压相加[4]。功率最大传输效率Gmax用来衡量功率合成器的性能:
图 1所示功率合成器用来实现两个子放大器的输出电压相加,其三维几何结构如图 2所示,总面积大小为1 360 μm×450 μm,合成器的主线圈和次线圈均采用半圆结构,线圈宽30 μm,线间距3 μm。基于TSMC 0.18 μm CMOS工艺参数,采用电磁仿真软件Momentum对该合成器进行仿真,仿真结果如图3所示,该功率合成器在2.5 GHz的功率传输效率达到82%。
3 二次谐波短路
为了提高PA的线性度,系统级的数字预失真(DPD)[8]、电路级的偏置电路[4]、器件级的预失真[2]等技术被广泛应用于PA的设计,但是由于设计的复杂度,系统级和电路级的设计不免带来芯片面积和功耗的增加。DPD一般将PA的幅度和相位非线性参数存储查找表(LUT)中,LUT中的参数可以根据PA的实际测量结果更新,然后提供一个与PA相反的非线性特性,但是DPD需要复杂的基带处理算法,直接导致芯片面积和功耗的增加,同时还需要完整的预失真系统级设计,增加了PA的设计难度。作为一种器件级的线性度提高技术,PMOS补偿技术一般用来抵消NMOS栅端电容随栅端电压的变大而下降,使得NMOS栅端电容基本不随栅端电压摆幅变化,降低PA的相位失真,但是PMOS管的加入会导致功率增益下降[2]。
本设计采用器件级的二次谐波短路技术,串联的LC网络谐振在两倍工作频率(5 GHz),接在差分功率放大器的共模节点:共栅管的栅端和功率合成器主线圈的中间节点(如图4所示),减小二次谐波因反馈存在和基频产生的交调失真。二次谐波短路对PA线性度的提高程度如图5所示,三次谐波交调失真(IMD3)用来衡量PA的线性度,在图4所示的节点加上二次谐波短路电路之后,IMD3最高达到7 dB的提升,对PA的线性度改善明显。
4 仿真结果
首先对该PA进行小信号S参数仿真,扫描频率范围1.5 GHz~3.5 GHz,仿真结果如图 6所示。图中可以看到输入回波损耗S11达到-25 dB,输入阻抗在2.5 GHz完全匹配,S21达到25 dB,说明电路整体在2.5 GHz谐振,参数取值合理。
然后对PA进行大信号仿真,2.5 GHz单频点信号接在PA输入端,输入功率扫描范围-25 dBm~5 dBm,仿真PAE、输出功率和功率增益如图7所示,该PA最高输出功率达到31.8 dBm,最高PAE为32.9%,功率增益为19.5 dB。采用功率合成器可以实现瓦级输出功率,为高输出功率的CMOS PA提供了一种非常有效的解决方案,降低了系统的设计难度。
最后,为了对该PA的线性度进行仿真,两路频率相差5 MHz的双声信号(2.502 5 GHz和2.497 5 GHz)同时接在PA的输入端,同样对输入功率进行扫描,仿真IMD3和五次谐波交调失真(IMD5)如图 8所示,其中IMD3在输出功率等于20 dBm时为-40 dBc, IMD5在输出功率等于26 dBm时为-40 dBc。虽然IMD3和IMD5存在一定程度的不对称,可能导致相邻信道抑制比(ACPR)和误差相量幅度(EVM)的下降,但是对线性输出功率并不会产生明显影响,而且这一问题可以采用其他线性度提高技术来解决。
该PA和目前已有研究的成果进行对比结果如表1所示,整体性能在效率和线性度之间取得非常好的折中,输出功率也较高,虽然流片测试之后的性能会下降,但是本文所用的功率提升和线性度提高技术得到验证,可以应用于同类PA的设计。
5 总结
设计了一个2.5 GHz的CMOS PA,通过采用功率合成技术和线性度提高技术来提升该PA的整体性能,片上变压器作为功率合成器在2.5 GHz时其功率传输效率达到82%,二次谐波短路电路通过片上电容和片外键合金线的寄生电感谐振,大大降低芯片面积,同时对该PA的IMD3改善达到7 dB。该PA采用TSMC 0.18 μm CMOS进行设计,最高输出功率达到31.8 dBm,三阶交调失真在输出功率等于22.3 dBm时为-30 dBc,芯片面积仅为1.92 mm2,具有高输出功率、高线性度、结构简单、匹配良好等优势。
参考文献
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