据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道,韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。但并没有提到是哪一家企业,合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。

韩国知识产权局(KIPO)发布的《过去10年(2011-2020年)专利申请报告》显示,2014年,向韩国知识产权局(KIPO)提交的与EUV光刻相关的专利申请数量达到88件的峰值,2018年达到55件,2019年达到50件。

特别是,韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年,韩国本土提出的专利申请数量为40件,超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年,韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。

过去10年,包括三星电子在内的全球企业进行了密集的研发,以确保技术领先地位。最近,代工公司开始使用5nm EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器。

从公司来看,全球六大公司的专利申请数占了总数的59%,卡尔蔡司(德国)18%,三星电子(韩国)15%,ASML(荷兰)11%,S&S Tech(韩国)8%,台积电(中国台湾)6%,SK海力士(韩国)1%。

从具体技术项目看,工艺技术申请专利占32%,曝光装置技术申请专利占31%,掩膜技术申请专利占28%,其他申请专利占9%。在工艺技术领域,三星电子占39%,台积电占15%。在光罩领域,S&S科技占28%,Hoya(日本)占15%,汉阳大学(韩国)占10%,朝日玻璃(日本)占10%,三星电子占9%。