《电子技术应用》
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Virtuoso Schematic Migration在模拟电路迁移中的应用
电子技术应用
方胜利1,孙航1,李炜1,丁学伟1,凌秋婵2
1.深圳市中兴微电子技术有限公司;2.楷登电子科技有限公司
摘要: 设计在不同工艺节点之间的迁移是每位IC设计师都非常关注的热点问题。为了帮助IC设计师解决这一问题,Cadence携手全球各大晶圆代工厂,开发出新的技术,以高效地将电路图迁移到新的节点,并使用更新的分析工具来确保获得最佳结果。Virtuoso Schematic Migration(VSM)是Virtuoso Studio IC23.1中基于Schematic XL的一个先进的电路迁移平台。可以帮助工程师快速地将自己的设计在不同工艺间进行迁移,以大幅度缩减电路设计周期,提高研发效率。该工具不仅支持多个library之前的协同迁移,同时也支持电路顶层的hierarchy迁移,在不同晶圆厂商工艺间迁移时也能自动解决器件pin错位的问题。
中图分类号:TN402 文献标志码:A DOI: 10.16157/j.issn.0258-7998.250802
中文引用格式: 方胜利,孙航,李炜,等. Virtuoso Schematic Migration在模拟电路迁移中的应用[J]. 电子技术应用,2025,51(8):11-15.
英文引用格式: Fang Shengli,Sun Hang,Li Wei,et al. Application of VSM in analog circuit migration[J]. Application of Electronic Technique,2025,51(8):11-15.
Application of VSM in analog circuit migration
Fang Shengli1,Sun Hang1,Li Wei1,Ding Xuewei1,Ling Qiuchan2
1.Sanechips Technology Co.,Ltd,;2.Cadence Design Systems, Inc.
Abstract: Design migration between different process nodes is a hot topic of concern for every IC designer. To help IC designers solve this problem, Cadence collaborates with major foundries worldwide to develop new technologies that efficiently migrate circuit diagrams to new nodes and use updated analysis tools to ensure optimal results. Virtuoso Schematic Migration (VSM), an advanced circuit migration platform based on Schematic XL in Virtuoso Studio IC23.1, helps engineers quickly migrate their designs between different processes to significantly reduce the circuit design cycle and improve R&D efficiency. This tool not only supports collaborative migration between multiple libraries but also supports hierarchical migration at the circuit top level.
Key words : Virtuoso;schematic migration;efficiency;GUI

引言

在现代电子设计领域,原理图是硬件开发的基石,它不仅是电路设计的蓝图,更是连接概念与实物的桥梁。然而,随着技术迭代加速、工具链演进和行业需求变化,原理图迁移逐渐成为工程师与设计团队无法回避的关键任务。这一过程涉及将现有电路设计从旧版EDA(电子设计自动化)工具或环境迁移至新平台,其复杂性远超简单的格式转换,而是涵盖数据兼容性、设计完整性、团队协作和长期战略价值的综合工程[1]。在EDA领域,原理图迁移是设计团队在工具升级、技术迭代或协作需求下不可避免的关键环节。随着半导体工艺进步、设计复杂度提升以及行业标准演进,传统的EDA工具可能无法满足现代设计需求,促使企业将旧版原理图迁移至更先进的平台。然而,这一过程并非简单的文件格式转换,而是涉及符号库匹配、网络连接验证、设计规则适配等一系列技术挑战,稍有不慎便可能导致设计功能变异、生产延误甚至成本超支[2]。

原理图迁移在芯片设计中变得越来越重要。如图1所示,首先,原理图迁移可以缩短设计周期,加速上市时间。迁移时可重用原有电路的架构、IP核和成熟模块,减少重新设计的时间。已有功能逻辑和测试用例可直接适配,减少验证和调试周期。现代EDA工具支持自动化迁移(如工艺库替换、布局优化),提升效率。其次,降低开发成本与风险减少研发投入。相比从零设计,迁移节省人力、流片和验证成本。原有电路已通过市场验证,工艺迁移主要解决物理实现问题,而非功能缺陷。避免全新设计可能存在的架构缺陷或性能不达预期的问题。优势在于快速响应工艺升级或供应链需求,但需注意模拟电路的敏感特性(如匹配、寄生效应),通常需人工干预优化。此外,当前原理图迁移仍然存在一些需要逐步攻克的难题。例如,如何确保迁移前后的器件参数一致,如何确保porting前后器件symbol尺寸不同时能够连线正确等问题。

尽管存在困难,成功的原理图迁移能显著提升设计效率、降低长期维护成本,并确保知识资产的可持续利用。近期Cadence在Virtuoso Studio IC23.1中基于Schematic XL开发出先进的电路迁移平台Virtuoso Schematic Migration(VSM),该工具不仅支持多个library之前的协同迁移,同时也支持电路顶层的hierarchy迁移,在不同晶圆厂商工艺间迁移时也能自动解决器件pin错位的问题。此外,Cadence近期推出的device mapping GUI将之前繁杂的mapping规则手动编写改成了用户界面点击的方式,大幅提高了mapping file 的准确性,同时也大幅提升了整个迁移流程的效率。综上,前端工程师可以利用migration实现更多工作,大幅度提高工作效率,缩短项目交付周期。

本文针对本公司一些实际的电路,基于该工具实现了在不同工艺间的迁移,大大提高了相同电路不同工艺间的复用效率,很大程度节省电路设计工程师对电路手动迁移所花费的时间。综上,工程师可以利用VSM来加速提高工作效率,缩短项目交付周期。

图片1.png

图1 原理图迁移中涉及周期和研发效率的对比关系


本文详细内容请下载:

https://www.chinaaet.com/resource/share/2000006621


作者信息:

方胜利1,孙航1,李炜1,丁学伟1,凌秋婵2

(1.深圳市中兴微电子技术有限公司,广东 深圳 518055;

2.楷登电子科技有限公司,上海 200120)


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