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逼近皮米时代!ASML将于2021年推下一代3nm EUV光刻机

2020-03-09
来源:IT之家
关键词: 皮米 ASML EUV D制造领域

ASML正在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列,最快会于2021年面世。

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据IT之家了解,现在ASML销售的光刻机主要为NXE:3400B和改进型的NXE:3400C,结构上相似。差别在于NXE:3400C采用模块化设计,将平均维护时间从48小时缩短到8-10小时;NXE:3400C的产量也从125WPH提升到了175WPH。这两款EUV光刻机属于第一代,物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。

在光刻机的分辨率公式中,NA数字越大,代表光刻机精度更高。ASML现在在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列,NA为0.55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利时微电子中心。

据悉,EXE:5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代,目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm,要想让技术尽快落地到实际,EXE:5000系列EUV光刻机的研发极为重要。

据ASML的爆料,EXE:5000系列EUV光刻机样机最快会于2021年面世,最快可能会于2023年或者2024年上市。

光刻机是目前世界上最复杂的精密设备之一,芯片制造的核心设备之一,除了可以用来生产芯片,还有用于封装的光刻机、LED制造领域的投影光刻机。作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司——荷兰ASML公司。去年共销售26台EUV光刻机,用于台积电、三星的7nm和5nm工艺制造。

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作者:远洋


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