4月17日消息，根据外媒路透社报导，美国众议院此前提出的《MATCH法案》的最新版本已缩减部分限制内容，但仍保留对荷兰光刻机大厂ASML的浸没式深紫外光（DUV）光刻机的对华出口限制，以及针对中国芯片厂设下供应门坎。

《MATCH法案》于4月2日由共和党众议员Michael Baumgartner提出，并获跨党派支持。其核心目标在于填补现行对华半导体设备出口管制的漏洞，同时推动美国与日本、荷兰等主要半导体设备供应国的政策一致性，以维持美国在人工智能领域的技术主导地位。

但是，相较于4月初发布的版本，最新的《MATCH法案》版本已删除多项争议性条款，包括原先计划对整个中国实施的低温蚀刻设备限制。当时业界批评该法案范围过广，甚至被形容为“失控列车”，这将严重冲击美国及盟友国内设备厂商的业绩。

不过，最新的修正版《MATCH法案》仍保留关键限制措施。根据草案内容，外国企业不得向被美方列为限制使用美国技术的中国半导体业者供应设备，涵盖中芯国际、长江存储与长鑫存储等。此外，针对相关设备的维修与服务，也需取得许可证，单相关申请已不再采取“一律拒绝”（policy of denial）的审查政策。

值得注意的是，该法案亦对美国政府与盟友的协商进度设定期限，若未能在时限内完成政策对齐，美方将进一步单方面扩大管制措施。

美国自2022年实施大规模芯片出口管制以来，持续与荷兰、日本协调设备限制政策，虽已取得部分进展，但美国设备商普遍认为竞争环境仍未完全公平。

中国方面则表达反对立场。

中国驻美大使馆发言人刘鹏宇表示，中方将密切关注相关发展，并强调反对美方以国家安全为由，推动对中国的技术封锁。

面对美国刻意打造排他性供应链，中方立场始终明确。中国驻美国大使馆发言人刘鹏宇表示，中方反对任何国家建立排他性贸易集团，扰乱国际贸易秩序。他强调，长期以来，中国在维护全球产业链和供应链安全稳定方面发挥了重要和建设性的作用。